真空镀膜，也称为薄膜沉积，是一种真空室工艺，将非常薄且稳定的镀膜层施加到基材表面，以保护其免受可能磨损或降低其效率的力。真空镀膜很薄，厚度在 0.25 到 10 微米（0.01 到 0.4 英寸）之间。

它就像一套盔甲，可以保护骑士并提高他的表现。

真空镀膜有多种类型和用途。以下是快速概览，可让您熟悉所使用的技术和一些可能的应用。如果您需要专家对最适合您的具体情况的意见，请单击此处请求与我们的技术团队进行对话。

真空镀膜的类型

PVD涂层

物理气相沉积镀膜(PVD) 是我们最常使用的真空室镀膜工艺。将要涂层的部件放置在真空室内。将用作涂层的固体金属材料在真空下蒸发。来自蒸发金属的原子以接近光速的速度行进，并将自身嵌入真空室中的零件表面。为了确保物体的正确区域被涂覆，在 PVD ??过程中仔细定位和旋转零件。

PVD 涂层不会为物体添加另一层，随着时间的推移会碎裂或破裂（想想旧油漆）。它正在浸渍物体。

溅射

溅射是另一种 PVD ??涂层，用于在物体上沉积导电或绝缘材料涂层。这是一个“视线”过程，正如阴极电弧过程（如下所述）。在溅射中，使用电离气体从目标材料（将涂覆零件的材料）中烧蚀或缓慢去除金属. 然后，这种烧蚀的金属穿过真空室并涂覆位于目标上方或下方的所需部件。

阴极电弧

阴极电弧是一种 PVD ??方法，它使用电弧放电来蒸发氮化钛、氮化锆或银等材料。蒸发的材料用它涂覆真空室中的部件。

原子层沉积

原子层沉积或 ALD 非常适合硅涂层和具有复杂尺寸的医疗设备。通过交替存在于腔室中的化学物质，可以以原子精度控制涂层的化学性质和厚度。这意味着它可以提供最完整的涂层类型之一，即使对于尺寸非常复杂的零件也是如此。

真空镀膜的用途

注塑模具

许多公司都在努力解决应该弹出的零件粘在注塑模具上的问题。这个问题是通过真空镀膜的润滑性来解决的。零件可轻松从薄膜涂层模具中脱模，从而使生产过程高效进行。换句话说，它节省了时间和金钱。模具也更有可能通过真空涂层保持在规格范围内。

半导体

真空镀膜可延长半导体行业的耗材寿命并减少腔室停机时间。涂层材料范围从熔融石英到氧化钇稳定的氧化锆，并且涂层具有光学透明性和化学惰性。所有这些都意味着通过同步维护周期来降低拥有成本。

添加剂制造

增材制造行业正在不断发展。3D 打印的新应用几乎每天都在出现。目前的限制因素是所用基材的性能。PVD 和 ALD 薄膜涂层有可能增强和改善增材部件的表面特性，使其更加灵活和功能强大。

医疗工具

通过 PVD ??涂层应用的黑色氮化钛正成为医疗工具的标准。该涂层可减少摩擦，为植入物提供生物相容性，具有抗菌性，并且可以作为对镍敏感的人的化学屏障（通常可以在工具中找到）。更不用说，黑色氮化钛医疗工具看起来很棒。

制造工具

薄膜涂层是制造工具的理想选择，因为它们可以承受极其恶劣的条件，而不会使工具超出公差范围。请记住，涂层被设计成了部分的工具。它不是装饰品，这意味着它不会随着时间的流逝而磨损或使关键部分失去耐受性。这对制造业至关重要。如果工具超出容差范围，则会造成瓶颈和连锁反应，对整个组织产生负面影响。