众所周知，镀膜的工艺有很多种类，有常见的电镀法、氧化法，还有气相生成法、离子注入法、扩散法、涂布法、液相生成法等。

其中气相生成法又可分为物理气相沉积法、化学气相沉积法和放电聚合法。

PVD工艺就是物理气相沉积法，由于这种工艺都是在真空环境下进行的，因此也称为这空离子镀膜技术。

PVD镀膜技术，是指在真空环境下，采用低电压，大电流的电弧放电技术轰击靶材，利用气体放电，使靶材蒸发，蒸发物质与气体都发生电离子作用，利用电场加速，使被蒸发的物质及其反应产生的物质沉积在工件上面。