氮化钛膜作为超硬涂层用于提高工模具的使用寿命的历史已经有20余年。目前，能够进行产业化沉积氮化钛涂层的沉积技术主要有三极磁控溅射、活性反应离子镀、空心阴极离子镀、执丝弧离子镀、多弧离子镀。

　　在这些沉积技术中以多弧离子镀的金属离化率比较高、金属离子流密度比较高，容易获得氮化钛等化合物涂层。由于采用场致发射原理，每一个小弧斑是一个场致电子发射源、金属蒸发源、金属离化源。由弧斑发射出的高密度电子流和高密度的金属蒸汽流产生高密度的碰撞电离,可以获得高离化率的金属离子流，容易反应沉积氮化钛等化合物涂层。弧斑在磁场的作用下在靶面上高速旋转，靶面上没有固定熔池,使得多弧源可以在镀膜室壁上任意安放，镀膜均匀区大、生产效率高，是1985年我国引进的各种沉积氮化钛涂层设备以来,应用比较多的沉积技术。但多弧离子镀技术有如下的不足，限制了其优占的发挥：

　　1.膜层组织中有粗大的熔滴，膜层组织比空心阴极离子镀、热丝弧离子镀磁控溅射镀的膜层组织粗大;

　　2.目前多弧离子镀设备多采用直径60mm~100mm的小弧源，为了使工件转架上得到均匀的镀膜,需在一台镀膜机的室壁上安装多个小弧源。每个小弧源必须配一个弧电源、一个引弧针、一套控制系统，镀膜机的结构复杂。操作者必须逐个引燃每一个小弧源，并随时关心每一个弧源的工作情况，操作烦琐。

　　由于多弧离子镀技术已经成为沉积氮化钛超硬涂层的重要技术，因此大家对它的研究、改进做了量工作。