在真空镀膜机真空度的测量中，测量规管及其连接管对设备真空系统的影响，可概括为“气沉”以及“气源”这两种动态的效应。特别是很低压力的测量过程中，气沉和气源效应的影响尤为严重。想要作出正确的判断，前提是研究设备的真空规管及其连接管中的气沉和气源的发生位置、形成的大小以及它的生成机制。

     在不同镀膜机采用的不同形式的真空规中，尤以电离规的气沉和气源效应的影响严重，对于其他各种真空规来说，则只是很小的影响，可不作考虑。因此，本文仅对电离规中的气沉和气源效应做分析。

1、电离规的除气作用

电清除除气

    电子与气体分子发生碰撞，使气体分子发生电离并产生离子。附带约100eV能量的离子打到电离规收集极或规壁上时，这些离子将被埋入表层下面或被束缚在固体表面，从而受到清除作用，该过程中受到束缚得最牢的分子，需受到高达300°C温度的烘烤才能被再次释放。

    电清除的抽速主要受规壁的温度和电位的影响，若想要降低电清除作用，可通过降低灯丝发射的电子流以及栅极电压，在电离规规壁和收集极已有一个单分子层的束缚成果时，就会逐渐减弱电清除作用。

    此外，若电离规规管的内壁有溅射镀上的金属薄膜，则对N₂也存在一定的除气作用。

    电离规对N₂的清除作用较大，这是由于电离清除效应以及电子碰撞氮分子的作用，会让N₂处于激发状态，变成了活性分子/原子，从而产生“化学清除效应”。

（2）化学清除效应

    化学清除抽气作用常见的类型分三种：一种是在高温钨表面上的气体分解作用；另一种是高温钨丝的氧化作用；还有一种是化学活性气体，比如N₂、H₂、CO、CO₂等气体在固体表面上产生的化学吸附效应，也就是气体清除效应。

2、电离规中气体的再释放

（1）光解吸

    该现象指的是固体在受光辐照的情况下，固体表面上出现的分子分解和解吸现象。尤其是在超高真空镀膜机的测量中，要格外注意光解吸现象。

（2）电解吸

    因为电子收集极上有气体吸附层，所以在电子打到它的表面时，将导致吸附层的气体发生解吸，或于其表面电离气体，之后再通过离子的形式进行解吸。

（3）热解吸

    热阴极电离规的阴极可看作一种气源，该规的高温阴极具有高温热量，产生高温热量的辐射，作用到其它电极和规壁则会引起气体发生热解吸。除此之外，在收集极接收离子和栅极接收电子时，也会出现发热，而这些热量也会导致气体发生热解吸现象。

3、气体与热表面之间的作用

    气体将会与电离规中的热丝发生作用，从而导致氧化、分解等作用直至生成新的气体。造成化学清除的是前两种作用，后一作用则是改变了系统中的气体成分。

    除此之外，CO₂会与热丝发生作用，生成CO和O₂，同样的，甲烷也会受热丝的作用而发生分解。

    针对这种现象，在镀膜机真空度的测量当中，想要降低上述效应，则可采用低功函数的低温阴极（如ThO₂/W等）。想要降低所产生的CO的总量，可通过在O₂中进行高温预处理，从而使钨丝中碳的杂质浓度降低，以此实现降低CO的生成