目前，薄膜材料制备技术主要包括：PVD （物理气相沉积技术）和CVD （化学气相沉积）技术。经过多年发展，真空镀膜技术已成为目前主流镀膜方法，主要包括真空蒸镀和真空溅镀。

     薄膜生长于基板（如屏显玻璃、光学玻璃等）之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料经过镀膜后形成，具有截止、吸收、滤光、增透、分光、反射、保护、干涉、防静电、防污、防水、导磁、绝缘、导电、耐腐蚀、耐高温、耐磨损、防辐射、抗氧化、复合和装饰等功能，并能够提高产品质量、节能、环保、改善原有性能、延长产品寿命等。

     真空镀膜技术是主要的制备薄膜材料技术之一，指在真空状态下，采用物理的方法，将某种物质表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有某种特殊功能的薄膜材料的技术。在真空镀膜技术下，用于制备薄膜材料的物质，统称为真空镀膜材料

     真空镀膜设备材料主要用于制备各种具有特定功能的薄膜材料，应用领域包括半导体、高档装饰用品、节能玻璃、光学元器件、 工具改性、平板显示、光磁记录媒体、  LED、太阳能电池等。